光刻机与蚀刻机技术方面，华国一直是弱项。

近年来，蚀刻机技术慢慢已经追赶上来，虽然仍有些差距，但已经能够看到弯道超车的希望。

但是光刻机技术不同，华国最先进的光刻机生产厂商尚海微电子生产的光刻机精度是90nm，而现在国际主**度为14nm，比如现在英特尔公司所使用的就是波长193nm光刻机，所能够达到的精度极限就是制作14nm制程的芯片。

而这，并不是最先进的光刻机。最先进的光刻机制造技术是荷兰ASML公司的EUV（极紫外）光刻机，利用它能够生产7nm甚至3nm制程的芯片。

从这个数字上看，就能够清晰看到，华国与其他国家在光刻机上的巨大差距，也能够明白为什么华国芯片技术，落后于的根本原因。

而之所以国内光刻机技术这么落后，其原因是多重的。

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