众所周知，光刻机被称为半导体产业“皇冠上的明珠”！

光刻机的工作原理也很简单，那就是通过一系列光源能量、形态束缚、将光束投射到刻画过电路板的掩膜上，

再经过光学补偿，将电路板成比例缩小投影到硅晶片上，最后以化学方法显影，得到刻画有电路图的硅晶。

业界把这种硅晶叫做芯片。

既然是光刻机，在工作过程中最需要的当然就是光了。

光在哪里传播呢？

空气中！

因此光刻机的工作环境要求绝对无尘，就连人体皮肤代谢的皮肤微粒都会对机器产生严重的损坏。

一般来说，无尘车间的空气要比外界干净1万倍！

此外，还对温度、湿度、空气流动等十余项参数有严重的要求。

别的不说，单是这种极限干净的无尘车间，就不是钉子能拥有的。

哪怕拥有系统，罗离也不可能凭空制造出这种程度的车间，就更不用提光刻机了。

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